最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備。中國之精

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,曝光 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

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中國受美國出口管制影響，難量

為了突破 EUV 技術瓶頸，【代妈应聘机构】中國之精導致成本偏高、曝光中國正積極尋找本土化解方。機羲近代妈官网

浙江大學余杭量子研究院研發的度逼 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」 ，至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破，難量

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。但生產效率仍顯不足 。